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基于比較法校準正壓漏孔的分子流進樣系統(tǒng)及控制方法

1077 編輯：管理員來源：中冶有色技術網(wǎng)

2023-03-18 15:02:23

本發(fā)明涉及一種基于比較法校準正壓漏孔的分子流進樣系統(tǒng)及控制方法，提出基于動態(tài)分子流進樣方法和累積分子流進樣方法相結(jié)合的示漏氣體進樣系統(tǒng)和方法，在漏孔泄漏的氣體累積一段時間后，在一套比較法正壓漏孔校準系統(tǒng)上、實現(xiàn)了動態(tài)比較和累積比較兩種質(zhì)譜分析方法的分子流進樣，突破了比較法校準正壓漏孔質(zhì)譜分析進樣的關鍵技術，并且解決了累積法條件下、正壓漏孔校準過程中混合氣體分子流進樣和微量He氣累積測量的技術難題。

聲明：

“基于比較法校準正壓漏孔的分子流進樣系統(tǒng)及控制方法” 該技術專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業(yè)用途，請聯(lián)系該技術所有人。

我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)