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基于鈣鈦礦量子點的圖形化復合功能薄膜的制備方法

1161   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網  
2023-03-01 00:40:05
本申請公開了一種基于鈣鈦礦量子點的圖形化復合功能薄膜的制備方法。該制備方法至少包括以下步驟:S100、獲得含有聚合物薄膜覆蓋的基板;S200、將所述聚合物薄膜圖形化;S300、在所述圖形化的聚合物薄膜上沉積金屬,得到聚合物填充的金屬格柵圖形襯底;S400、鈣鈦礦量子點前驅體嵌入所述金屬格柵圖形襯底的聚合物中,析出鈣鈦礦量子點,即可得到所述基于鈣鈦礦量子點的圖形化復合功能薄膜。該方法可大面積、高分辨率、高重復性、低成本的制備穩(wěn)定性良好,并可兼容傳統(tǒng)半導體光刻工藝的鈣鈦礦量子點熒光復合功能薄膜,從而為制備光電探測器、相機模塊、陣列激光器、多色顯示和熒光防偽標識等器件提供了規(guī)?;a的可行性。
聲明:
“基于鈣鈦礦量子點的圖形化復合功能薄膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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