本發(fā)明揭示了一種高深寬比高保形納米級(jí)正型結(jié)構(gòu)的制備方法,本發(fā)明用旋涂的方法在提供的襯底上旋涂一層正性光刻膠聚甲基丙烯酸甲酯,并置于熱板上前烘;利用電子束曝光技術(shù)對(duì)樣品進(jìn)行曝光顯影得到預(yù)期的聚甲基丙烯酸甲酯微納結(jié)構(gòu);利用磁控濺射鍍膜沉積技術(shù)在樣品上共形沉積一層
功能材料薄膜;利用旋涂的方式在濺射處理后的樣品上旋涂一層平坦化層氫倍半硅氧烷;然后把樣品置于熱板上低溫烘烤以去除平坦化材料中的溶劑;再對(duì)樣品用斜角離子束拋光設(shè)備以角度小于90°的夾角進(jìn)行拋光處理直到除去聚甲基丙烯酸甲酯上表面所有金屬為止;最后用氧等離子對(duì)樣品進(jìn)行處理以達(dá)到去除聚甲基丙烯酸甲酯并進(jìn)行無(wú)應(yīng)力釋放最終的高深寬比高保形納米級(jí)正型結(jié)構(gòu)。
聲明:
“高深寬比高保形納米級(jí)正型結(jié)構(gòu)的制備方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)