本發(fā)明涉及一種基于層級組裝的硅-二氧化鈦-聚吡咯三維仿生
復合材料,依以下方法制備:(1)首先用一定濃度的堿液,對硅片進行各向異性刻蝕,在其表面形成緊密排列的四方錐形貌;(2)然后將步驟(1)刻蝕后的硅片進行親水處理,在其表面生長二氧化鈦晶種,并置于馬弗爐內(nèi)煅燒;(3)再將步驟(2)中所得到的表面具有二氧化鈦晶種的硅片置于反應釜中,采用水熱法在硅錐的側壁上生長二氧化鈦納米棒;(4)最后在步驟(3)中得到的二氧化鈦納米棒上沉積聚吡咯納米粒子。本發(fā)明所涉及的三維仿生復合材料兼具優(yōu)異消反射和高效分離光生電荷的能力,可以應用到光催化、光電轉化器件和
太陽能電池等領域。
聲明:
“基于層級組裝的硅-二氧化鈦-聚吡咯三維仿生復合材料及應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)