本發(fā)明屬于納米復(fù)合材料制備技術(shù)領(lǐng)域，涉及光催化復(fù)合抗菌材料，尤其涉及一種光敏半導(dǎo)體Zr?TCPP MOFs結(jié)構(gòu)負(fù)載Ag納米粒子復(fù)合材料ZMP?Ag的制備方法，將ZrCl₄、苯甲酸加入DMF中混勻，再加入水和卟啉，混合均勻成溶液，移入反應(yīng)釜，50～200℃水熱反應(yīng)1～48 h,離心分離清洗，制得Zr?TCPP MOFs（ZPM）；再將ZPM溶于0.1～10 mM的AgNO₃溶液，移入反應(yīng)釜，50～200℃持續(xù)反應(yīng)1～48 h，離心分離清洗，制得ZMP?Ag。本發(fā)明通過水熱法制備出高效穩(wěn)定的光催化抗菌材料ZPM?Ag，制備方法簡單，可操作性好；ZPM?Ag在六次循環(huán)運行中表現(xiàn)出良好的穩(wěn)定性，且毒性低和環(huán)境友好的抗菌材料。因此，較高的可見光利用率和優(yōu)異的殺菌性能使ZPM?Ag在抗菌方面具有廣闊的應(yīng)用前景。