本發(fā)明公開了一種Pt/硅納米陣列結(jié)構(gòu)
復(fù)合材料及其制備方法。Pt/硅納米陣列復(fù)合材料的Pt為簇狀,硅納米陣列為規(guī)則孔狀或線狀,Pt位于所述硅納米陣列頂端。Pt/硅納米陣列結(jié)構(gòu)復(fù)合材料的制備方法是通過調(diào)整
電化學(xué)參數(shù)控制材料的微觀形貌結(jié)構(gòu),本發(fā)明提供一種多電位階躍法沉積金屬,加快了光生載流子的轉(zhuǎn)移速率,減少缺陷的形成,提高了光電轉(zhuǎn)化效率,增強了太陽能的利用率。
聲明:
“Pt/硅納米陣列結(jié)構(gòu)復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)