本發(fā)明涉及一種分析下伏層位地震反射時(shí)間提拉規(guī)律的方法及裝置,其中,方法包括:建立鹽膏巖異常速度夾層引起下伏地震反射層位提拉幅度變化的計(jì)算模型?廣義提拉模型;根據(jù)鹽膏巖異常速度夾層引起下伏地震反射層位提拉幅度變化的計(jì)算模型?廣義提拉模型分析鹽膏巖異常速度層影響下伏層位地震反射時(shí)間提拉規(guī)律。本技術(shù)方案通過建立簡單地質(zhì)模型的正演模擬建立符合實(shí)際構(gòu)造的典型模型,研究鹽巖和膏巖不同厚度組合對下伏目的層成像的影響以及研究阿姆河右岸下石膏層中含有鹽巖情況不同所對應(yīng)的地震響應(yīng)特征,便于疊前速度分析,并更容易獲知疊后矯正鹽膏巖速度變化對下伏碳酸鹽巖目的層地震反射時(shí)間的影響。
聲明:
“分析下伏層位地震反射時(shí)間提拉規(guī)律的方法及裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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