本申請公開了一種用于基坑內(nèi)局部滲漏的聯(lián)合堵漏方法,包括:于局部有滲漏的基坑外側(cè)打設(shè)一排輕型井點;采用輕型井點將水位降至坑中坑底部以下;打設(shè)注漿孔;暫停輕型井點的抽水;于所述注漿孔中灌注灌漿料進(jìn)行封堵。本申請采用輕型井點局部形成降水帷幕方法,快速的形成一道截水帷幕,從而達(dá)到快速的局部降低水位至坑底端,再使用灌漿料注漿的方法快速堵住滲漏點,從而達(dá)到堵漏的目的,本申請采用使用輕型井點+雙液灌漿料灌漿堵漏對基坑底部還有坑中坑,且圍護(hù)樁未成功搭接的地質(zhì)土層以粉土粉砂為主的情況更具有針對性。
聲明:
“用于基坑內(nèi)局部滲漏的聯(lián)合堵漏方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)