本發(fā)明公開了一種鈮酸鋰晶片/鉭酸鋰晶片局域快速黑化方法,包括以下步驟:(1)將拋光后的鈮酸鋰晶片或鉭酸鋰晶片置于密閉裝置中,然后充滿還原性氣體;(2)按照設定好的圖形,激光欠焦照射鈮酸鋰晶片或鉭酸鋰晶片,通入惰性氣體排出還原性氣體,得到局域黑化的晶片。所述激光欠焦的參數為:激光波長為1064nm,激光功率為4~10W,欠焦距離為0.50~2.50cm,掃速為100~600mm/s。本發(fā)明在還原性氣體氛圍內,采用激光照射鈮酸鋰晶片或鉭酸鋰晶片,能夠快速實現晶片黑化,同時還可以對黑化的區(qū)域進行選擇,達到局域化黑化的目的。
聲明:
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