本發(fā)明公開(kāi)了一種磁控濺射制備超薄金屬鋰薄膜的方法及系統(tǒng)。所述方法包括：至少將基材、金屬鋰靶材置入真空環(huán)境，并通過(guò)直流磁控濺射方法，在所述基材上沉積形成超薄金屬鋰薄膜。所述系統(tǒng)包括：直流磁控濺射設(shè)備、相互配合的至少一放卷機(jī)構(gòu)和至少一收卷機(jī)構(gòu)，以及至少一主輥，所述至少一放卷機(jī)構(gòu)和至少一收卷機(jī)構(gòu)置于第一真空室內(nèi)，所述至少一主輥置于第二真空室內(nèi)。本發(fā)明采用磁控濺射技術(shù)沉積的金屬鋰薄膜厚度更薄，表面更加均勻平整，與基材的粘附性更好，若作為鋰二次電池的負(fù)極材料，可使表面電流密度分布更加均勻，從而減少鋰枝晶的生成，提高電池的電化學(xué)性能與循環(huán)壽命。