本發(fā)明的一形態(tài)的成膜裝置具有成膜部、第一處理部、第二處理部以及真空室。上述成膜部包含使鋰金屬蒸發(fā)的蒸發(fā)源,并在基材上形成鋰金屬膜。上述第一處理部包含用于將上述鋰金屬膜的表面羥基化的第一處理室。上述第二處理部包含用于將羥基化后的所述表面碳酸化的第二處理室。上述真空室容納上述成膜部、上述第一處理部以及上述第二處理部。
聲明:
“成膜裝置及成膜方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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