本發(fā)明提供一種涉及集成電路行業(yè)研磨廢水三級過濾回用水工藝。該三級過濾回用水工藝由斜管沉淀、超濾和納濾等工藝流程組成。該用水技術(shù)的特征在于:該回用水技術(shù)可去除95%以上的SiO
2,回用水水質(zhì)保證,運行成本較低。
聲明:
“集成電路行業(yè)研磨廢水三級過濾回用水工藝” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)