本發(fā)明公開(kāi)了有機(jī)無(wú)機(jī)雜化依諾沙星分子印跡復(fù)合膜材料的制備方法，屬新材料技術(shù)領(lǐng)域。先制備無(wú)機(jī)硅納米球(SiO₂)進(jìn)行表面改性后，與聚乙烯亞胺(PEI)進(jìn)行接枝，制備有機(jī)無(wú)機(jī)雜化SN?PEI納米粒子，之后與聚偏氟乙烯(PVDF)膜進(jìn)行共混制得基膜，最后以依諾沙星作為模板分子，丙烯酰胺(AM)為功能單體，4?乙烯基吡啶作為交聯(lián)劑，偶氮二異丁氰(AIBN)為引發(fā)劑進(jìn)行印跡聚合反應(yīng)，基于分子印跡技術(shù)，制備一種高性能的有機(jī)無(wú)機(jī)雜化依諾沙星分子印跡復(fù)合膜材料(SPEMIMs)，并用于檢測(cè)廢水中殘留的依諾沙星。本發(fā)明的制備方法具有操作簡(jiǎn)便，易于實(shí)施，產(chǎn)率較高，反應(yīng)條件溫和等特點(diǎn)，有望應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)中。