本發(fā)明公開了一種加藥盤管裝置,包括具有內(nèi)腔的裝置本體,所述裝置本體的下表面上均勻分布有多個加藥孔,所述裝置本體的中心具有總進(jìn)藥孔,所述總進(jìn)藥孔通過所述裝置本體的內(nèi)腔與所述多個加藥孔相連通。從裝置本體中心處的總進(jìn)藥孔進(jìn)藥,藥水從經(jīng)內(nèi)腔均勻流向多個加藥孔,然后從多個加藥孔中均勻流出,實現(xiàn)向廢水中的均勻加藥,有效地將廢水中待處理的物質(zhì)去除或者沉淀,消除了加藥死角,而且避免局部加藥過量。
聲明:
“加藥盤管裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)