本發(fā)明提供了硼摻雜金剛石電極,包括電極基底,設(shè)置在所述電極基底一側(cè)或兩側(cè)的過(guò)渡層,以及設(shè)置在所述過(guò)渡層上的硼摻雜金剛石薄膜層,所述過(guò)渡層的材質(zhì)為二硼化鈦、二硼化鈮、二硼化鉭和二硼化鎢中的一種或多種,所述電極基底的材質(zhì)為鈦、鈮、鉭或鎢。該硼摻雜金剛石電極采用二硼化鈦等材料在電極基底與硼摻雜金剛石薄膜之間形成過(guò)渡層,有效抑制了金屬基底表面疏松碳化物層的形成,提高了硼摻雜金剛石薄膜和基底間結(jié)合力,且硼摻雜金剛石薄膜質(zhì)量高,膜層致密無(wú)孔洞,將其用于
電化學(xué)高級(jí)氧化法處理高濃度有機(jī)廢水的陽(yáng)極,耐腐蝕性強(qiáng),電極工作壽命長(zhǎng),處理效率高。本發(fā)明還提供了一種硼摻雜金剛石電極的制備方法。
聲明:
“硼摻雜金剛石電極及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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