本發(fā)明涉及一種
電化學(xué)制備超薄
石墨烯納米片的方法,屬于石墨烯制備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明是以層狀石墨形成的電極為陽極,金屬或石墨電極為陰極,以含羧酸的液相體系作為電解液和插層源,在所述陽極和陰極之間施加一定電流,進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng),形成羧酸插層石墨化合物,然后進(jìn)行熱剝離和機(jī)械剝離,多次重復(fù),獲得平均厚度不超過2nm或?qū)訑?shù)不超過5層的超薄石墨烯納米片。本發(fā)明的制備工藝不需要高溫剝離,不產(chǎn)生廢氣,也不使用強(qiáng)酸,可最大程度地降低對環(huán)境的危害,且本發(fā)明能夠形成更均勻剝離的GICs,適用于生產(chǎn)尺寸更小更均勻的納米級(jí)石墨烯薄片,且本發(fā)明制備方法簡單,能耗低,對設(shè)備要求低、耗時(shí)短,適合工業(yè)化生產(chǎn)。
聲明:
“電化學(xué)制備超薄石墨烯納米片的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)