一種X射線分光分析裝置，具備：激發(fā)源，對試樣表面的規(guī)定照射區(qū)域照射用于使特征X射線產生的激發(fā)射線；分光晶體，面向照射區(qū)域而設置，由平板構成；狹縫，設置于照射區(qū)域和分光晶體之間，平行于照射區(qū)域及分光晶體的規(guī)定的晶面；X射線線性傳感器，設置為在平行于狹縫的方向上具有長邊的線狀的檢測元件沿垂直于狹縫的方向排列；能量校準部，通過從激發(fā)源對因照射所述激發(fā)射線而生成能量已知的2個特征X射線的標準試樣的表面照射該激發(fā)射線從而測量該2個特征X射線，并基于該測量的2個特征X射線的能量，校準由X射線線性傳感器的各個檢測元件檢測的特征X射線的能量。能夠更高精度地求出從測量對象試樣發(fā)射的特征X射線的能量。