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使用氣相臭氧化學(xué)發(fā)光分析砷濃度的方法和裝置

1092   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 06:35:09
本發(fā)明公開了實際連續(xù)的注射/區(qū)段式流體基分析裝置,其測量水 中的砷,能夠區(qū)分無機的As(III)和As(V)。檢測原則基于通過在受控制 的pH條件下的硼氫化物還原從反應(yīng)室(10)內(nèi)的樣品生成AsH3,噴射該 反應(yīng)室以驅(qū)動AsH3到位于光電倍增管(50)上面的小型反射單元(70),使 得其與由周圍空氣產(chǎn)生的臭氧反應(yīng),并且測量得到的化學(xué)發(fā)光強度結(jié) 果。胂的產(chǎn)生和從溶液中的除去導(dǎo)致與樣品基質(zhì)分離,避免了在一些 溶液基分析技術(shù)中遇到的潛在危險。區(qū)別測定As(III)和As(V)是基于這 些物質(zhì)向AsH3的還原性的pH依賴性的不同。在pH<1下,As(III)和 As(V)在NaBH4的存在下被定量轉(zhuǎn)化成AsH3。在4-5的pH下,置于 As(III)轉(zhuǎn)變成胂。在該形式下,對于3ml樣品,在pH≤1下的檢測極 限(S/N=3)是0.5μg/L As,在4-5的pH下的檢測極限(S/N=3)是 0.09μg/L As(III)。該分析裝置是固有的自動化裝置并且每次檢測要求4 分鐘。在另外的實施方案中,使用在Ca陰極的電化學(xué)還原代替使用 NaBH4。
聲明:
“使用氣相臭氧化學(xué)發(fā)光分析砷濃度的方法和裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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