本發(fā)明公開(kāi)了一種用于化學(xué)機(jī)械拋光工藝的在線(xiàn)終點(diǎn)檢測(cè)控制系統(tǒng)及方法，該系統(tǒng)包括：數(shù)據(jù)獲取模塊，數(shù)據(jù)獲取模塊與拋光盤(pán)的電機(jī)驅(qū)動(dòng)器相連，用于在化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備拋光晶圓的過(guò)程中，獲取電機(jī)驅(qū)動(dòng)器中的電機(jī)功率信號(hào)；終點(diǎn)判斷模塊，用于判斷電機(jī)功率信號(hào)的變化是否滿(mǎn)足拋光工藝終點(diǎn)的條件，并在判斷出電機(jī)功率信號(hào)的變化滿(mǎn)足拋光工藝終點(diǎn)的條件時(shí)，控制化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備停止拋光晶圓。該實(shí)施例提出一種基于電機(jī)功率信號(hào)確定化學(xué)機(jī)械拋光工藝終點(diǎn)的控制系統(tǒng)及方法，準(zhǔn)確判斷化學(xué)機(jī)械拋光工藝終點(diǎn)，控制晶圓拋光過(guò)程，避免過(guò)拋光或者欠拋光情況的發(fā)生，保證了拋光工藝質(zhì)量。