本發(fā)明涉及一種具有在線監(jiān)測(cè)功能的化學(xué)氣相沉積裝置，包括：生長(zhǎng)腔、位于生長(zhǎng)腔內(nèi)的基片臺(tái)、位于基片臺(tái)上的薄膜襯底、位于生長(zhǎng)腔內(nèi)并相對(duì)位于薄膜襯底上方的噴淋頭、位于生長(zhǎng)腔外并用于監(jiān)測(cè)生長(zhǎng)于薄膜襯底表面薄膜表面平整度的第一測(cè)量裝置、位于生長(zhǎng)腔外并用于監(jiān)測(cè)薄膜內(nèi)部應(yīng)力的第二測(cè)量裝置及位于生長(zhǎng)腔外并用于監(jiān)測(cè)薄膜內(nèi)殘余應(yīng)力的第三測(cè)量裝置。本發(fā)明提供的化學(xué)氣相沉積裝置中利用相應(yīng)監(jiān)測(cè)裝置監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)過程中應(yīng)力變化情況，以便于后期建立薄膜樣品生長(zhǎng)過程應(yīng)力與生長(zhǎng)條件的數(shù)據(jù)庫(kù)，并進(jìn)而在后續(xù)薄膜生長(zhǎng)中根據(jù)數(shù)據(jù)庫(kù)中相應(yīng)數(shù)據(jù)選擇適宜生長(zhǎng)條件。