本發(fā)明提供了一種膜厚測量方法和化學(xué)機械拋光設(shè)備,其中,方法包括:線下測試步驟,在該步驟中獲取在不同提離高度下、不同膜厚對應(yīng)的膜厚傳感器的輸出信號值,擬合得到用于表征輸出信號值、提離高度和膜厚之間函數(shù)關(guān)系的靜態(tài)方程,其中,提離高度為膜厚傳感器距晶圓的距離;線上測試步驟,在該步驟中獲取拋光墊厚度以及在化學(xué)機械拋光設(shè)備上進行拋光時膜厚傳感器的輸出信號值,利用靜態(tài)方程計算得到晶圓的計算膜厚,根據(jù)計算膜厚與晶圓的實際膜厚之間的偏差,得到用于修正靜態(tài)方程的動態(tài)方程;實際測量步驟,在該步驟中根據(jù)靜態(tài)方程和動態(tài)方程,基于當(dāng)前工況下的拋光墊厚度,將膜厚傳感器在線測量時的輸出信號值轉(zhuǎn)換為最終的膜厚。
聲明:
“膜厚測量方法和化學(xué)機械拋光設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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