本發(fā)明屬于提供一種表面等離子體共振圖像分析金膜點陣列的制備方法。采用軟件設(shè)計所需的點陣陣列圖樣,用透明膠片高精度打印的方法制備掩模(Mask)。把正性光刻膠旋涂于SPR金片表面,紫外光通過掩模曝光后,用堿液顯影。然后采用選擇性化學(xué)刻蝕暴露出的金膜,最后用剝離液去掉未曝光的光膠層,從而構(gòu)建所需的金膜點陣列,點的大小和間距可方便地由掩模來控制。
聲明:
“表面等離子體共振圖像分析金膜點陣列的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)