一種用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置。屬于金剛石薄膜的化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域。為了解決真空條件下CVD金剛石薄膜在微刀具上的沉積問題。殼體上下端分別與上蓋和底座可拆卸密封連接構(gòu)成反應(yīng)室,真空計固定在上蓋上,真空計的檢測端緊密穿入上蓋設(shè)置在殼體內(nèi),上蓋上固定有與殼體內(nèi)腔相通的管路,針閥固定在上蓋的管路上,針閥與管路相通,上蓋的觀察孔一處固定有觀察窗一,上蓋上設(shè)有多個冷水環(huán)槽,殼體的側(cè)壁上的兩個觀察孔二處各固定有一個觀察窗二,電磁閥固定在底座的進氣孔處,導(dǎo)氣管一端連接于進氣箱,另一端與反應(yīng)室相通,導(dǎo)氣管上安裝有導(dǎo)氣閥門,載物臺設(shè)置在反應(yīng)室內(nèi)并固定在底座上。本發(fā)明主要用于對沉積件微刀具表面金剛石薄膜沉積。
聲明:
“用于化學(xué)氣相沉積金剛石薄膜的緊湊型真空反應(yīng)裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)