一種圓形化學機械拋光墊,其包括具有同心定位的原點的拋光面。所述拋光面包括凹槽組,這些凹槽組各自包括以一定圖案排列的凹槽,一個凹槽組中的凹槽與另一個凹槽組中的凹槽交叉。各凹槽組中的凹槽構造和排列成使得沿著任意與所述原點同心且穿過所述凹槽的圓測得的拋光面開槽率基本固定,即約在其平均值的25%以內。
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“具有重疊的固定面積螺旋凹槽的化學機械拋光墊” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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