描述了監(jiān)控正經(jīng)歷拋光的襯底的摩擦系數(shù)的系統(tǒng)方法和設(shè)備。拋光墊組件包括具有拋光表面的拋光層和柔性耦合到拋光層的襯底接觸構(gòu)件,襯底接觸構(gòu)件具有接觸襯底的暴露表面的頂表面。頂表面的至少一部分與拋光表面基本共面。設(shè)置傳感器易測(cè)量襯底接觸構(gòu)件的橫向位移。一些實(shí)施例可以在化學(xué)機(jī)械拋光期間提供精確的終點(diǎn)檢測(cè)來指示下層的暴露。
聲明:
“使用摩擦傳感器的拋光終點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)