本發(fā)明公開了一種適于生物分子檢測的
芯片單元的制備方法,包括襯底上淀積電熱絕緣材料和基底材料;光刻和干法刻蝕的方法制作圖形作為制備側(cè)墻的基底;淀積側(cè)墻材料;干法回刻形成高和寬均為納米尺寸的側(cè)墻;用濕法腐蝕的方法去側(cè)墻基底;光刻或電子束光刻+薄膜淀積+剝離工藝在側(cè)墻上搭上制作電極金屬層;薄膜淀積工藝制備絕緣材料層;化學(xué)機械拋光方法拋光表面同時切斷側(cè)墻兩旁的金屬連接;濕法腐蝕方法去除剩余的側(cè)墻材料形成納流體通道;晶片鍵合封頂,減薄封頂晶片;通道兩端開孔并在通道兩側(cè)的金屬上開孔引出電極即得。本發(fā)明能突破光刻分辨率限制及提高芯片單元與CMOS工藝的兼容性,并提高適于生物分子檢測的芯片單元的制備效率。
聲明:
“適于生物分子檢測的芯片單元的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)