本實用新型公開了一種硅片轉速檢知裝置,包括設置于殼體內(nèi)的旋轉軸、遮擋片、光電傳感器、控制器,旋轉軸的一端伸出殼體,旋轉軸的另一端固定設置有遮擋片;遮擋片的一側設有光電傳感器;光電傳感器電連接控制器。本實用新型用于化學機械拋光工藝的后清洗工序,能夠在硅片清洗過程中對硅片的旋轉狀況進行實時監(jiān)測,當實際轉速與工藝設定值誤差超過10%及時報警,能夠降低硅片表面顆粒殘留的可能性,從而提高成品率。本實用新型還公開了一種帶硅片轉速檢知裝置的硅片清洗裝置。
聲明:
“硅片轉速檢知裝置及帶硅片轉速檢知裝置的硅片清洗裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)