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基于渦旋光束的暗場(chǎng)共聚焦拉曼偏振光譜測(cè)量裝置與方法

1069   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:22:35
基于渦旋光束的暗場(chǎng)共聚焦拉曼偏振光譜測(cè)量裝置與方法,屬于光學(xué)精密測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明裝置包括光纖雙波長(zhǎng)光照明模塊、明場(chǎng)共聚焦模塊、暗場(chǎng)偏振共焦拉曼光譜分析模塊;通過(guò)光纖產(chǎn)生環(huán)形照明光束與互補(bǔ)孔徑遮擋探測(cè),有效分離樣品表面反射信號(hào)與亞表面散射信號(hào),可同時(shí)獲取微米級(jí)表面及亞表面劃痕、磨損及亞表面裂痕、氣泡等缺陷的三維分布信息;共聚焦拉曼光譜測(cè)量可對(duì)樣品化學(xué)分子成分等性質(zhì)進(jìn)行三維檢測(cè)分析;通過(guò)引入偏振信息測(cè)量,可以分析物質(zhì)極性。
聲明:
“基于渦旋光束的暗場(chǎng)共聚焦拉曼偏振光譜測(cè)量裝置與方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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