本發(fā)明提供一種對作用于基底上的壓力的測量方法，提供一基底，在基底上設置一壓力感測器以及一信號接收器，采用一壓力裝置作用于基底上，向基底施加壓力，壓力感測器感測基底受到的壓力并獲得相應的壓力數(shù)據(jù)，信號接收器接收壓力數(shù)據(jù)并傳輸至一終端設備，終端設備根據(jù)壓力數(shù)據(jù)得到基底上的壓力分布，通過壓力分布調(diào)整壓力裝置向基底施加的壓力，從而改善向基底施加的壓力的均勻度，通過該方法可以改善化學機械研磨的均勻度，并避免由此產(chǎn)生缺陷。