本發(fā)明屬于
石墨烯和普魯士藍(lán)復(fù)合納米片材料修飾電極的制備技術(shù),具體涉及一種利用簡單的濕化學(xué)法制備石墨烯和普魯士藍(lán)復(fù)合納米片材料修飾電極的方法。該方法具有操作簡單,成本低,所得材料比表面積大、分散性好等優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明是以石墨、
氯化鐵、鐵氰酸鉀、氯化鉀為原料,采用濕化學(xué)法,制備石墨烯/普魯士藍(lán)復(fù)合納米片。本發(fā)明利用了石墨烯片的還原性質(zhì),從而定向的將普魯士藍(lán)負(fù)載在石墨烯片的表面。通過該方法可以制備出響應(yīng)恢復(fù)較好,靈敏度高,檢測限低的H2O2
電化學(xué)傳感器。該方法具有操作簡單,低成本,高性能,易于推廣等優(yōu)點(diǎn)。可以滿足在化學(xué)、臨床醫(yī)學(xué)及生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域中廣泛的應(yīng)用。
聲明:
“新型高性能復(fù)合納米材料修飾電極的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)