本發(fā)明提供一種濕式蝕刻機(jī)臺(tái)的清洗裝置,包括:化學(xué)槽、水洗槽、擋板以及基板傳送通道,其中,所述擋板上連接有振動(dòng)馬達(dá),所述基板傳送通道下方設(shè)有傳感器,當(dāng)所述傳感器檢測(cè)到第一片所述玻璃基板的前端通過(guò)所述基板通道到達(dá)預(yù)設(shè)位置時(shí),所述基板傳送通道停止傳送所述玻璃基板,且所述振動(dòng)馬達(dá)啟動(dòng)工作以使所述擋板振動(dòng),將所述擋板上的所述藥液凝結(jié)成的液滴振落,當(dāng)所述振動(dòng)馬達(dá)停止振動(dòng)時(shí),所述基板傳送通道繼續(xù)將第一片所述玻璃基板通過(guò)所述化學(xué)槽傳送至所述水洗槽。本發(fā)明可以防止生產(chǎn)過(guò)程中擋板上的藥液液滴滴落到玻璃基板上,導(dǎo)致玻璃基板出現(xiàn)不清晰的現(xiàn)象。
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“濕式蝕刻機(jī)臺(tái)的清洗裝置及清洗方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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