本發(fā)明提供了一種制作擴(kuò)散阻擋層的方法,該方法包括:在反應(yīng)腔中通入稀釋性氣體、三甲基
硅烷和氨氣,利用多頻等離子化學(xué)氣相沉積在填充于互連槽的銅表面和介質(zhì)層表面淀積一層擴(kuò)散阻擋層。采用本發(fā)明的方法,利用多頻等離子化學(xué)氣相沉積,縮小了擴(kuò)散阻擋層的折光指數(shù)的變化范圍,進(jìn)一步減小了檢測(cè)獲得的器件的擊穿電壓的變化范圍。
聲明:
“制作擴(kuò)散阻擋層的方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專(zhuān)利(論文)的發(fā)明人(作者)