本發(fā)明涉及一種用于物體的表面處理的裝置,其帶有容納待處理的物體(12)的處理腔(14)、向物體(12)對(duì)準(zhǔn)的用于UV輻射的輻射源(16)和用于以工作流體加載處理腔(14)的設(shè)備(24),其中,工作流體包含至少一個(gè)惰性成分和至少一個(gè)光化學(xué)活性的活性成分。根據(jù)本發(fā)明,提出一種構(gòu)造用于檢測在位于處理腔(14)中的工作流體處和/或在物體(12)處的測量數(shù)據(jù)的測量單元(20),其中,設(shè)置有與測量單元(20)相連接的控制單元(18)用于根據(jù)所檢測的測量數(shù)據(jù)影響工作流體的組成。
聲明:
“用于物體的表面處理的裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)