本發(fā)明涉及金屬有機物化學(xué)氣相沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于MOCVD設(shè)備GaAs基外延摻雜源供給系統(tǒng)，旨在解決實際生產(chǎn)過程中摻雜源過期使用或未使用完即需更換，從而導(dǎo)致生產(chǎn)的產(chǎn)品質(zhì)量不能保證，以及生產(chǎn)成本增加的問題，其技術(shù)要點在于供若干種類的載氣及摻雜源輸入并輸出調(diào)整所得氣體的流通管路、至少兩臺與所述流通管路相連的MOCVD設(shè)備，以及一控制子系統(tǒng)，所述載氣與所述摻雜源混合稀釋以輸出指標(biāo)實時數(shù)據(jù)符合指標(biāo)目標(biāo)數(shù)據(jù)的所述調(diào)整所得氣體；所述控制子系統(tǒng)包括數(shù)字化傳感器；執(zhí)行件；與所述數(shù)字化傳感器通信連接，將數(shù)字化傳感器檢測所得的指標(biāo)實時數(shù)據(jù)與對應(yīng)的指標(biāo)目標(biāo)數(shù)據(jù)比對，并控制所述執(zhí)行件動作的控制端。