本發(fā)明提供了一種發(fā)射尖端、熱場發(fā)射電子源及制作方法,屬于電子束成像檢測領域,本發(fā)明提供的發(fā)射尖端包括本體部和延伸部;所述延伸部的一端與所述本體部軸向連接,另一端朝向遠離所述本體部的方向軸向延伸,且存在一逐漸縮小的第一連接部;延伸部的任一軸截面均為一對相對設置的至少一對內(nèi)凹弧形結構,且所述延伸部的側壁環(huán)設有至少一圈凹槽部。本發(fā)明還提供了一種包括該發(fā)射尖端的熱場發(fā)射電子源及制作方法。本發(fā)明提供的發(fā)射尖端和熱場發(fā)射電子源,凹槽部和內(nèi)凹弧形結構相互配合,更加優(yōu)化了高壓電場在尖端的分布,改善了輪廓表面的物理化學特性,獲得了更高的亮度、更小的總發(fā)射電流以及更高的穩(wěn)定性。
聲明:
“發(fā)射尖端、熱場發(fā)射電子源及制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)