本發(fā)明涉及一種均勻化氮化硼涂層的制備方法。給方法以三氯化硼(BCl3)和氨氣(NH3)為反應(yīng)氣體,通入反應(yīng)器中,先在混合區(qū)混合均勻,再在沉積反應(yīng)區(qū)發(fā)生表面沉積,最后將所得樣品進(jìn)行高溫?zé)崽幚?,?jīng)掃描隧道顯微鏡(SEM)、傅立葉紅外(FT-IR)和X射線衍射(XRD)檢測(cè),制備出厚度均勻、成分單一、結(jié)晶度較高的氮化硼涂層。此方法可用于
復(fù)合材料中氮化硼界面的制備其它樣品表面氮化硼涂層的制備,還可用于研究氮化硼氣相沉積過(guò)程及機(jī)理的研究。該方法主要解決的是雙組元化學(xué)氣相沉積氮化硼過(guò)程中氣體混合不均的問(wèn)題,以提高氮化硼涂層的均勻度,更好地控制涂層厚度。
聲明:
“均勻化氮化硼涂層的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)