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基于全二維半導(dǎo)體材料的雙極性光電晶體管、制備方法及其應(yīng)用

713   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:13:36
本發(fā)明涉及基于全二維半導(dǎo)體材料的雙極性光電晶體管及其制備方法和應(yīng)用,其采用微機(jī)械剝離法、化學(xué)/物理氣相沉積法在SiO2/Si襯底上制備全二維過(guò)渡金屬硫族化物(TMDs)半導(dǎo)體層,在半導(dǎo)體層的兩端制備Ti/Au電極,隨后在TMDs溝道的局部位置沉積介質(zhì)層;之后對(duì)未覆蓋介質(zhì)層的TMDs溝道進(jìn)行P型摻雜,獲得雙極性N?P?N或P?N?P的器件結(jié)構(gòu)。本發(fā)明采用全二維TMDs,通過(guò)化學(xué)局部摻雜的辦法獲得了雙極性光電晶體管結(jié)構(gòu),解決了純TMDs探測(cè)器中響應(yīng)速度慢、靈敏度低等問(wèn)題,實(shí)現(xiàn)了高達(dá)103的光增益、響應(yīng)時(shí)間在ms量級(jí)、探測(cè)率接近1012瓊斯,其性能可比于商用的Si基探測(cè)器,同時(shí)制備方法簡(jiǎn)單,技術(shù)成熟,成本低廉,非常有利于商業(yè)化推廣。
聲明:
“基于全二維半導(dǎo)體材料的雙極性光電晶體管、制備方法及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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