本發(fā)明提供了一種用于在超導(dǎo)薄膜上使用選擇蝕刻技術(shù)形成超導(dǎo)器件(232)的方法。該方法利用將離子注入與化學(xué)蝕刻結(jié)合的快速蝕刻。超導(dǎo)薄膜要保留的部分在離子注入處理(217)中被掩蓋(215)。然后化學(xué)蝕刻處理以比沒有注入的部分(223)快得多的速度去掉超導(dǎo)薄膜經(jīng)注入的部分(225,227),從而只保留了未注入的部分(223)。得到的超導(dǎo)器件可以用作超微型結(jié)構(gòu)和微型的尖頭、輻射熱測量計、多層RF線圈、微波波導(dǎo)和濾波器。
聲明:
“使用選擇蝕刻技術(shù)形成超導(dǎo)器件的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)