本發(fā)明公開了一種氣體擴散器清洗工藝及清洗輔助設備,涉及化學氣相沉積裝置清洗技術領域。本發(fā)明的一種氣體擴散器清洗工藝及清洗輔助設備,包括一次剝離→二次剝離→研磨→噴砂→化學拋光→OVEN烘干→出庫檢查→包裝;未剝離干凈的氣體擴散器進行二次剝離,所述二次剝離包括濕式噴砂→高壓水洗,通過采用濕式噴砂去除局部殘留,減少藥液浸泡,避免孔徑擴張,以保證氣體擴散器孔徑擴張量<0.03mm;另外,采用濕式噴砂局部作業(yè)時表面粗糙度不會明顯變大,可滿足氣體擴散器表面具有一定粗糙度的要求,并保證研磨的均勻性。
聲明:
“氣體擴散器清洗工藝及清洗輔助設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
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