針對現(xiàn)有技術(shù)中Si作為光解水陽極材料易被腐蝕的問題,本發(fā)明提供一種晶面誘導(dǎo)構(gòu)筑Si/TiO2復(fù)合光陽極的制備方法,并將其應(yīng)用于光解水制氧方面。方法如下:將清洗及去除氧化層的Si基底放入到無水乙醇中,然后放入到四氯化鈦溶液中,反復(fù)幾次制備Si和TiO2的異質(zhì)界面連接層;通過水熱反應(yīng)在Si基底表面合成TiO2薄膜保護層,并在N2保護的條件下,將Si/TiO2在管式爐中退火處理。將所得到的Si/TiO2復(fù)合光陽極用于光解水的光陽極進行
電化學(xué)測試。本發(fā)明操作簡單,設(shè)備要求較低,更加易于操作。同時對于堿性溶液具有較好的抗腐蝕能力。
聲明:
“晶面誘導(dǎo)構(gòu)筑Si/TiO2復(fù)合光陽極的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)