本實(shí)用新型提供了一種校正裝置，應(yīng)用于干法刻蝕機(jī)臺(tái)以及化學(xué)氣相沉積機(jī)臺(tái)真空腔體中的靜電吸附盤(pán)上，靜電吸附盤(pán)包括一吸附盤(pán)本體，以及設(shè)置于吸附盤(pán)本體上的一承托臺(tái)，承托臺(tái)的橫基面呈圓形，承托臺(tái)的頂部用以放置一晶圓，其中，校正裝置包括：一中空的圓形柱體，用以套設(shè)于所承托臺(tái)上；環(huán)形出部，水平的環(huán)設(shè)于圓形柱體的靠近承托臺(tái)的一端的頂部，環(huán)形突出部的頂面形成一測(cè)量面；測(cè)量面與承托臺(tái)的頂面位置齊平；多個(gè)刻度尺，徑向均布于測(cè)量面上。其技術(shù)方案的有益效果在于，可根據(jù)測(cè)量面上的多個(gè)刻度尺測(cè)量出放置于承托臺(tái)頂面的晶圓樣品是否出現(xiàn)位置偏移以及具體的偏移量，方便使用者對(duì)機(jī)臺(tái)真空腔體中進(jìn)行針對(duì)性的校正，提高了校正精度。