本發(fā)明公開了硫氮聚合物在指紋顯現(xiàn)中的應(yīng)用。將待測(cè)材料置于硫氮聚合物的上方,即可顯現(xiàn)指紋,所述待測(cè)材料為金屬,優(yōu)選為銅或銅合金;所述待測(cè)材料的表面未經(jīng)破壞或?yàn)橐哑茐谋砻?。本發(fā)明針對(duì)金屬特別是銅及銅合金上潛在手印的顯現(xiàn)提供了一種新的顯現(xiàn)方法,具體采用硫氮聚合物作為指紋顯現(xiàn)劑,其屬于非毒害性材料,無(wú)需另外添加化學(xué)溶劑,使用安全、環(huán)保;經(jīng)硫氮聚合物顯現(xiàn)后的手印,紋線和背景反差明顯,可直接拍照提取,從而為法庭審判提供痕跡物證。
聲明:
“硫氮聚合物在指紋顯現(xiàn)中的應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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