本發(fā)明公開一種薄膜測試技術(shù)領(lǐng)域的帶網(wǎng)狀支撐框架的低應(yīng)力微拉伸試樣的制備方法,步驟:在玻璃基片上旋甩光刻膠作為犧牲層并前烘,在犧牲層上濺射金屬Ti層并做表面活化處理用作種子層,在種子層上進行甩膠、曝光、顯影,根據(jù)掩模版設(shè)計的微拉伸試樣層形狀,實現(xiàn)其光刻膠結(jié)構(gòu)的圖形化;在表面活化的Ti層上電鍍Cu-TSV試樣層;在Cu-TSV鍍層上進行支撐框架層的
電化學(xué)沉積;最后去除光刻膠圖形化層、Ti濺射層、犧牲層,得到獨立的帶有網(wǎng)狀支撐框架的懸空Cu-TSV微拉伸試樣。本發(fā)明制備的微拉伸試樣有效降低了薄膜應(yīng)力,結(jié)構(gòu)簡單,易于制備,成本低,實現(xiàn)了Cu-TSV薄膜的原位獨立拉伸,有利于微拉伸精準測試。
聲明:
“帶網(wǎng)狀支撐框架的低應(yīng)力微拉伸試樣的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)