本發(fā)明涉及一種用于基片的濕法處理設(shè)備,具有主體外殼,其包括用藥液對(duì)基片、尤其是硅片進(jìn)行濕法化學(xué)處理的多個(gè)處理槽,沿處理槽延伸和傳送基片的水平傳動(dòng)系統(tǒng),為了便于對(duì)設(shè)備的處理區(qū)進(jìn)行監(jiān)測(cè)和維護(hù)保養(yǎng),以及對(duì)于配套設(shè)施在設(shè)備里的集成實(shí)行優(yōu)化,并因而有助于簡(jiǎn)化設(shè)備結(jié)構(gòu),減少設(shè)備的占地面積,本發(fā)明建議,所述設(shè)備具有兩個(gè)處理區(qū),但配套設(shè)施以及在設(shè)備上方頂部和下方槽部之間的連接位于這兩個(gè)處理區(qū)之間,由此使得可從兩側(cè)接近處理區(qū)。
聲明:
“用于基片的濕法處理設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)