本發(fā)明提供了一種反射型掩模體的缺陷檢測(cè)方法及缺陷檢測(cè)系統(tǒng)。該缺陷檢測(cè)方法中,通過采集來自掩模體的反射光以得到對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)度分布,進(jìn)而可根據(jù)光強(qiáng)度分布分析并揭示出掩模體內(nèi)的缺陷信息。該缺陷檢測(cè)方法是基于光學(xué)檢測(cè)過程而能夠快速且無損的實(shí)現(xiàn)對(duì)掩模體的缺陷檢測(cè)。
聲明:
“反射型掩模體的缺陷檢測(cè)方法及缺陷檢測(cè)系統(tǒng)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)