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測(cè)量真空離子鍍和等離子體噴涂鍍膜膜厚與均勻性的方法

1134   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:31
本發(fā)明公開了一種測(cè)量真空離子鍍和等離子體噴涂鍍膜膜厚與均勻性的方法。該方法基于激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù)結(jié)合激光誘導(dǎo)熒光技術(shù)測(cè)量真空離子鍍膜技術(shù)及等離子體噴涂鍍膜技術(shù)的沉積膜厚膜厚與均勻性。該發(fā)明是一種微損接近無損的檢測(cè)方法,能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)鍍膜樣品膜厚10nm量級(jí)測(cè)量,鍍膜表面均勻性μm量級(jí)分辨測(cè)量。尤其是該方法還是一種可以實(shí)時(shí)、原位、在線、無接觸與主動(dòng)式的測(cè)量方法,且不會(huì)對(duì)鍍膜過程有干擾,易于操作,實(shí)時(shí)分析。本發(fā)明主要用于真空離子鍍,比如真空離子鍍物理、化學(xué)氣相沉積、等離子體噴涂等領(lǐng)域,不排除應(yīng)用于其它的、具有相近技術(shù)特征的薄膜或者涂層沉積技術(shù)領(lǐng)域。
聲明:
“測(cè)量真空離子鍍和等離子體噴涂鍍膜膜厚與均勻性的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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