本發(fā)明涉及薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基于反射率光譜測(cè)量光學(xué)薄膜厚度的方法及系統(tǒng)。一種基于反射率光譜測(cè)量光學(xué)薄膜厚度的方法，提供多組已知光學(xué)薄膜厚度的標(biāo)準(zhǔn)樣品，獲得多組標(biāo)準(zhǔn)樣品中光學(xué)薄膜厚度與光學(xué)薄膜反射率光譜的色空間坐標(biāo)之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系；基于測(cè)量待測(cè)樣品的反射率光譜并獲取其對(duì)應(yīng)的色空間坐標(biāo)，并依據(jù)所述對(duì)應(yīng)關(guān)系得到待測(cè)樣品的光學(xué)薄膜厚度。在測(cè)量待測(cè)樣品的反射率光譜時(shí)，對(duì)于待測(cè)樣品表面的光學(xué)薄膜不會(huì)造成損害，且測(cè)試時(shí)間短，因此本發(fā)明所提供的方法具有對(duì)光學(xué)薄膜無(wú)損害，且測(cè)量快速的優(yōu)點(diǎn)。一種基于反射率光譜測(cè)量光學(xué)薄膜厚度的系統(tǒng)，具有對(duì)光學(xué)薄膜無(wú)損害，且測(cè)量快速的優(yōu)點(diǎn)。