本發(fā)明涉及一種硅基底多層線圈結(jié)構(gòu)的微型渦流傳感器,屬于微傳感器領(lǐng)域,用于金屬構(gòu)件表面微裂紋檢測(cè)。該傳感器基于200μm厚的三寸硅基片由單層激勵(lì)線圈、多層檢測(cè)線圈以及導(dǎo)通層和絕緣層構(gòu)成。每?jī)蓪訖z測(cè)線圈成反向螺旋環(huán)繞通過(guò)中心導(dǎo)線柱串聯(lián)導(dǎo)通,保證其中感應(yīng)電流流向一致增強(qiáng)檢測(cè)信號(hào);檢測(cè)線圈和激勵(lì)線圈之間填充二氧化硅絕緣層。檢測(cè)線圈截面尺寸為10μm×10μm、20μm×15μm、30μm×15μm三種且每個(gè)線圈均為10匝,對(duì)應(yīng)激勵(lì)線圈截面尺寸為140μm×20μm、290μm×20μm、430μm×20μm且均為單匝。電感線圈呈方形和圓形兩種平面螺旋并根據(jù)形狀及尺寸呈矩陣式分布以增加檢測(cè)面積提高檢測(cè)效率。本發(fā)明是基于微機(jī)電系統(tǒng)MEMS通過(guò)UV-LIGA為精密加工工藝,具有結(jié)構(gòu)纖薄、微小化、靈敏度高、效率高的優(yōu)點(diǎn),適合金屬工件表面微缺陷的無(wú)損檢測(cè)。
聲明:
“硅基底多層線圈結(jié)構(gòu)的微型渦流傳感器” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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