本發(fā)明涉及集成電路技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及到一種用于缺陷分類的光學(xué)檢測方法，通過設(shè)定一合適的缺陷檢測設(shè)備的缺陷檢測靈敏度，并調(diào)用該光學(xué)缺陷檢測設(shè)備對灰階化以及標(biāo)識后的柵極、有源區(qū)和氧化層隔離區(qū)進(jìn)行缺陷檢測，并根據(jù)缺陷位于不同程度的灰階判斷缺陷在靜態(tài)存儲器的上對應(yīng)的位置同時進(jìn)行分類，因此，在線的光學(xué)缺陷檢測能夠根據(jù)缺陷在靜態(tài)存儲器的上面的位置進(jìn)行準(zhǔn)確全面的分類，從而可以對器件的失效模式的研究和缺陷的成因分析帶了極大的便利。