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基于脈沖光探測(cè)磁共振的電磁場(chǎng)近場(chǎng)成像系統(tǒng)及方法

752   編輯:管理員   來(lái)源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 09:00:13
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于脈沖光探測(cè)磁共振的電磁場(chǎng)近場(chǎng)成像系統(tǒng)和方法,該系統(tǒng)由激光泵浦光路、微波源、金剛石NV色心探頭、CCD相機(jī)單元、同步系統(tǒng)、位移掃描平臺(tái)、控制軟件及數(shù)據(jù)分析成像系統(tǒng)所構(gòu)成。該系統(tǒng)采用含有NV色心的金剛石大塊單晶做探測(cè)單元,并采用靜磁場(chǎng)將金剛石NV色心的磁共振峰劈開(kāi)成8個(gè)峰,8個(gè)共振峰對(duì)應(yīng)于金剛石晶格結(jié)構(gòu)四個(gè)晶軸方向<111>,<1?11>,<?111>和<11?1>,通過(guò)測(cè)量每個(gè)共振峰的拉比頻率,獲得垂直于該晶軸方向的圓偏振微波場(chǎng)強(qiáng)度,通過(guò)對(duì)四個(gè)方向的微波場(chǎng)強(qiáng)度進(jìn)行綜合計(jì)算,再構(gòu)出微波矢量的強(qiáng)度和方向。通過(guò)對(duì)被測(cè)量微波芯片的局部區(qū)域微波近場(chǎng)高分辨成像,可以為芯片失效分析提供定量的數(shù)據(jù)。
聲明:
“基于脈沖光探測(cè)磁共振的電磁場(chǎng)近場(chǎng)成像系統(tǒng)及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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